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BX-G103激光橢偏儀 多入射角測量儀是針對高-端研發(fā)和質量控制領域推出的極-致型多入射角激光橢偏儀。 BX-G103系列可在單入射角度或多入射角度下對樣品進行準確測量。可用于測量單層或多層納米薄膜樣品的膜層厚度、折射率n和消光系數(shù)k;也可用于同時測量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k;亦可用于實時測量納米薄膜動態(tài)生長中膜層的厚度、折射率n和消光系數(shù)k。多入射角度設計實現(xiàn)了納米薄膜的絕對厚度測量。
BX-G10紫外廣義光譜橢偏儀針對科研和工業(yè)環(huán)境推出的高精度快速攝譜型廣義光譜橢偏儀,波長范圍覆蓋紫外、可見到紅外。 廣義光譜橢偏儀采用寬帶超消色差補償器、利用步進補償器掃描測量采樣模式、基于高靈敏度探測單元和光譜橢偏儀分析軟件,用于測量納米薄膜樣品、塊狀材料和各向異性材料。
BX-G101高精度靈敏光譜橢偏儀針對科研和工業(yè)環(huán)境中薄膜測量推出的高精度快速攝譜型光譜橢偏儀,波長范圍覆蓋紫外、可見到紅外。 光譜橢偏儀基于高靈敏度光譜探測單元和光譜橢偏儀分析軟件,用于測量單層和多層納米薄膜的層構參數(shù)(如,厚度)和物理參數(shù)(如,折射率n、消光系數(shù)k,或介電函數(shù)ε1和ε2),也可用于測量塊狀材料的光學性質。